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        玻璃瓶生產廠家介紹玻璃制品的陰極濺射鍍膜法

         
        發布時間: 2020 . 3 . 15 點擊人氣 313 次

        玻璃瓶   玻璃瓶生產廠家

        陰極濺射法(cathode sputting)是在一定真空度(10-3~10-1Pa)下,施加高壓電場,使氣體放電產生高能等離子體流,撞擊到作為陰極的濺射靶材上,使靶材內部的原子發射出來,沉積到玻璃表面。從靶材表面逸出金屬原子,還可以濺射氣體并發生化學反應,生成氧化物、氮化物、硫化物、碳化物等各種薄膜。按照濺射的原理和方法,陰極濺射法可分為直流濺射、高頻濺射、反應性濺射、磁控濺射等多種方法。其中,磁控濺射法在陰極背面裝有兩組永久磁鐵,磁鐵產生的強磁場使等離子體聚焦、加速,向陰極集中,沉積速度比直流濺射提高3~5倍,鍍膜效率大大提高(圖5.13)。并且通入反應性氣體,可以進行反應濺射。磁控濺射法的膜厚可控性和重復性好,膜層牢固,附著力強,耐腐蝕和耐磨性能好,可以制造高熔點金屬膜、氧化物、非氧化物膜等復雜膜系,濺射速度快,生產效率高,生產規格大,可以大規模連續生產,是目前最常用的鍍膜玻璃生產方法之等離子鍍膜法是真空鍍膜法與濺射法的結合。靶材被加熱蒸發成原子后,在氣體放電區被等離子體和電子撞擊電離并加速,沉積到基片上。膜與基片之間附著力極強,膜的密度高,膜厚均勻,且可以為形狀復雜的割品膜,能金屬、氧化物、非氧化物膜,沉積速度快,是一種先進的玻璃鏡膜方法

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